【看中國2020年11月8日訊】分析師指出，美國商務部上月甫將6項新興技術列為「對美國國家安全至關重要」的出口管制項目，恐重創北京半導體野心。華府更嚴格的出口管制新規涵蓋晶元製造兩項關鍵技術，即用於極紫外光（EUV）應用的運算式微影軟體、五納米IC晶圓生產技術，這對北京當局在先進半導體製造領域欲追趕上西方的目標形成新阻礙。
據《自由時報》引述香港《南華早報》報導，美國新管制的技術還包括電腦數控工具、數位取證工具、捕獲和分析通訊和後設資料的軟體、次軌道太空船，還擴大了「瓦聖納協議」對軍民兩用產品和技術的管制範圍，該協議締約國包括美國、荷蘭等42國，旨在管制常規武器和軍民兩用等敏感技術輸往中國。
研調機構Forrester分析師戴鯤指出，中國已被列入禁運國家的名單內，阻礙其進入全球生產體系；中國在電腦、航太、晶元研發和製造等許多領域的技術發展和民間生產，持續面臨嚴峻挑戰。
美國新管制的半導體技術「用於製造EUV光罩的運算式微影軟體」，為先進7納米製程節點的關鍵技術；另一項為最先進的5納米生產節點技術，全球只有台積電有能力實現生產。
研究機構以賽亞報告指出，北京自主研發的微影軟體「只能支援80或90納米」製程，中芯國際在使用美國設備下可在14納米節點生產晶元，今年恐無法實現10納米製程；且中國短期可能無法跨越關鍵障礙，包括微影和蝕刻的核心技術分別由荷蘭艾司摩爾（ASML）、美國應用材料和科林研發掌控。
Dechert法律事務所合夥人達菲分析認為，任何涉及輸往中國、具國安或軍事用途的軍民兩用技術，都「非常不可能」取得美國出口許可證。
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責任編輯:靜馨
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